黄光工艺是一种 光刻技术，主要应用于半导体行业中。它涉及将硅片等晶片进行涂胶、软烘、曝光、显影、硬烤等一系列步骤，以光刻出特定的图形。在这个过程中，黄光作为照明光源，用于在微影制程中转移光罩上的图案至感光材料上。由于黄光照明避免了使用含有紫外线的白光照明，从而保护了光刻胶的性能，因此这一制程环节被简称为“黄光”。
黄光工艺的特点包括能够制作较细的线路，蚀刻无法实现，且成本高、良率低、对环境要求高、流程长且异常多。与之相对的是蚀刻工艺，其成本低、良率高、对环境要求低、流程短且工艺成熟。
此外，黄光工艺还可以应用于微电子封装技术，如WLP黄光工艺，这种工艺利用黄光波长的光源进行微细线路的制作和焊接，具有高精度、高可靠性、高集成度，适用于高密度、高频率的电子元器件封装。
在显示技术方面，黄光工艺也用于制造触摸屏，通过光刻技术将图案转移至感光材料上，并利用黄光照明避免紫外线对光刻胶的损害，从而提高显示装置的性能和可靠性。
综上所述，黄光工艺是一种在半导体制造中广泛应用的关键技术，尤其在微电子封装和显示技术领域发挥着重要作用。